硅化钼的氧化

本书特色

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本书在总结氧化理论的基础上，收集了近年来国内外在硅化钼氧化方面的研究成果，重点介绍了作者十多年来的研究进展，包括二硅化钼及其复合材料的氧化性能和氧化机理、硅化钼涂层的制备及其氧化性能，给出了硅化钼高温抗氧化涂层的设计思想与不同基体的应用实例。

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内容简介

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目录

前言第1章 硅化钼简述1．1 硅化钼的晶体结构1．2 硅化钼的相图1．3 硅化钼的性能1．3．1 力学性能1．3．2 氧化性能1．3．3 摩擦磨损性能1．4 硅化钼的发展简述1．5 硅化钼的制备技术1．5．1 机械合金化1．5．2 自蔓延高温合成1．5．3 放电等离子烧结1．6 硅化钼的应用前景1．6．1 高温结构材料1．6．2 发热元件1．6．3 高温抗氧化涂层参考文献第2章 氧化基本理论2．1 引言2．2 氧化的基本过程2．3 氧化的主要影响因素2．3．1 材料特性2．3．2 氧化膜性质2．3．3 氧化膜/金属界面2．3．4 氧化膜/气体界面2．3．5 气相环境2．4 氧化热力学2．4．1 基本氧化热力学2．4．2 硅化钼氧化反应的△G0-T图2．4．3 挥发性物质对氧化的影响2．5 氧化动力学2．5．1 静态氧化动力学规律2．5．2 循环氧化动力学2．6 氧化基础理论2．6．1 纯金属的氧化理论2．6．2 合金的氧化2．7 氧化的测试与研究方法2．7．1 引言2．7．2 氧化动力学实验2．7．3 氧化膜的传质实验2．7．4 氧化样品的观察与分析参考文献第3章 硅化钼的氧化3．1 二硅化钼（MoSi2）的氧化3．1．1 低温氧化（400-700℃）3．1．2 高温氧化3．2 三硅化五钼（Mo5Si603）氧化3．3 硅化三钼（Mo3Si）的氧化3．3．1 Mo3Si的氧化3．3．2 Mo3Si-Mo5Si3的氧化参考文献第4章 二硅化钼基复合材料的氧化4．1 Al/MoSi2复合材料的氧化性能4．1．1 低温氧化性能4．1．2 高温氧化性能4．2 WSi2/MoSi2复合材料的氧化4．2．1 低温氧化性能4．2．2 高温氧化性能4．3 稀土/MoSi2复合材料氧化行为4．3．1 低温氧化性能4．3．2 高温氧化性能4．4 SiC/MoSi2复合材料的氧化行为4．4．1 低温氧化性能4．4．2 高温氧化性能4．5 Mo5Si3/MoSi2复合材料4．5．1 低温氧化性能4．5．2 高温氧化性能4．5．3 0．8％La203（质量分数）-M05Si3/MoSi2复合材料的高温氧化行为4．6 CNTs/MoSi2复合材料4．6．1 低温氧化性能4．6．2 高温氧化性能4．7 其他部分MoSi2基复合材料的高温氧化性能参考文献第5章 硅化钼涂层的氧化5．1 硅化钼涂层的设计5．2 硅化钼涂层的制备5．2．1 料浆法5．2．2 气相沉积法5．2．3 粉末包渗法5．2．4 等离子喷涂法5．2．5 熔盐法5．2．6 其他制备方法5．3 硅化钼涂层的氧化5．3．1 钼基硅化钼涂层的氧化5．3．2 镍基硅化钼涂层的氧化5．3．3 铌基硅化钼涂层的氧化5．3．4 碳基硅化钼涂层的氧化5．4 硅化钼涂层的发展趋势参考文献

封面

书名:硅化钼的氧化

作者:张厚安

页数:230

定价:¥88.0

出版社:科学出版社

出版日期:2016-05-01

ISBN:9787030482495

PDF电子书大小:49MB 高清扫描完整版