硅化钼的氧化

本书特色

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本书在总结氧化理论的基础上,收集了近年来国内外在硅化钼氧化方面的研究成果,重点介绍了作者十多年来的研究进展,包括二硅化钼及其复合材料的氧化性能和氧化机理、硅化钼涂层的制备及其氧化性能,给出了硅化钼高温抗氧化涂层的设计思想与不同基体的应用实例。

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内容简介

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目录

前言第1章 硅化钼简述1.1 硅化钼的晶体结构1.2 硅化钼的相图1.3 硅化钼的性能1.3.1 力学性能1.3.2 氧化性能1.3.3 摩擦磨损性能1.4 硅化钼的发展简述1.5 硅化钼的制备技术1.5.1 机械合金化1.5.2 自蔓延高温合成1.5.3 放电等离子烧结1.6 硅化钼的应用前景1.6.1 高温结构材料1.6.2 发热元件1.6.3 高温抗氧化涂层参考文献第2章 氧化基本理论2.1 引言2.2 氧化的基本过程2.3 氧化的主要影响因素2.3.1 材料特性2.3.2 氧化膜性质2.3.3 氧化膜/金属界面2.3.4 氧化膜/气体界面2.3.5 气相环境2.4 氧化热力学2.4.1 基本氧化热力学2.4.2 硅化钼氧化反应的△G0-T图2.4.3 挥发性物质对氧化的影响2.5 氧化动力学2.5.1 静态氧化动力学规律2.5.2 循环氧化动力学2.6 氧化基础理论2.6.1 纯金属的氧化理论2.6.2 合金的氧化2.7 氧化的测试与研究方法2.7.1 引言2.7.2 氧化动力学实验2.7.3 氧化膜的传质实验2.7.4 氧化样品的观察与分析参考文献第3章 硅化钼的氧化3.1 二硅化钼(MoSi2)的氧化3.1.1 低温氧化(400-700℃)3.1.2 高温氧化3.2 三硅化五钼(Mo5Si603)氧化3.3 硅化三钼(Mo3Si)的氧化3.3.1 Mo3Si的氧化3.3.2 Mo3Si-Mo5Si3的氧化参考文献第4章 二硅化钼基复合材料的氧化4.1 Al/MoSi2复合材料的氧化性能4.1.1 低温氧化性能4.1.2 高温氧化性能4.2 WSi2/MoSi2复合材料的氧化4.2.1 低温氧化性能4.2.2 高温氧化性能4.3 稀土/MoSi2复合材料氧化行为4.3.1 低温氧化性能4.3.2 高温氧化性能4.4 SiC/MoSi2复合材料的氧化行为4.4.1 低温氧化性能4.4.2 高温氧化性能4.5 Mo5Si3/MoSi2复合材料4.5.1 低温氧化性能4.5.2 高温氧化性能4.5.3 0.8%La203(质量分数)-M05Si3/MoSi2复合材料的高温氧化行为4.6 CNTs/MoSi2复合材料4.6.1 低温氧化性能4.6.2 高温氧化性能4.7 其他部分MoSi2基复合材料的高温氧化性能参考文献第5章 硅化钼涂层的氧化5.1 硅化钼涂层的设计5.2 硅化钼涂层的制备5.2.1 料浆法5.2.2 气相沉积法5.2.3 粉末包渗法5.2.4 等离子喷涂法5.2.5 熔盐法5.2.6 其他制备方法5.3 硅化钼涂层的氧化5.3.1 钼基硅化钼涂层的氧化5.3.2 镍基硅化钼涂层的氧化5.3.3 铌基硅化钼涂层的氧化5.3.4 碳基硅化钼涂层的氧化5.4 硅化钼涂层的发展趋势参考文献

封面

硅化钼的氧化

书名:硅化钼的氧化

作者:张厚安

页数:230

定价:¥88.0

出版社:科学出版社

出版日期:2016-05-01

ISBN:9787030482495

PDF电子书大小:49MB 高清扫描完整版

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