真空镀膜

内容简介

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本书是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。
本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。

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封面

书名:真空镀膜

作者:李云奇

页数:310

定价:¥85.0

出版社:化学工业出版社

出版日期:2012-08-01

ISBN:9787122127808

PDF电子书大小:148MB 高清扫描完整版