薄膜技术与薄膜材料
本书特色
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本书是作者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，全书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的cvd相关理论、设备装置、cvd种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、cnx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。
本书除了具有一定的理论参考价值外，也具有较为广泛的应用价值，既可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。
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内容简介
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本书是笔者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成
全书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的cvd相关理论、设备装置、cvd种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、cnx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。
本书除了具有一定的理论价值外，也具有较为广泛的应用价值，即可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。
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目录
1物理气相沉积1.1物理气相沉积1.2真空蒸发镀膜 1.2.1真空蒸发的基本过程1.2.2蒸发热力学1.2.3蒸发速率1.2.4蒸发分子的平均自由程与碰撞概率1.2.4.1蒸发分子平均自由程1.2.4.2碰撞概率1.2.5蒸发源的蒸发特性及膜厚分布1.2.5.1点蒸发源1.2.5.2小平面蒸发源1.2.6蒸发源的类型1.2.6.1电阻加热蒸发源1.2.6.2电子束加热蒸发源1.2.6.3高频感应加热蒸发源1.2.6.4电弧加热蒸发源1.2.6.5激光加热蒸发源1.2.7合金及化合物蒸发1.2.7.1合金的蒸发1.2.7.2合金薄膜的制备方法1.2.7.3化合物蒸发法1.3溅射镀膜 1.3.1辉光放电1.3.1.1直流辉光放电的过程与特性 1.3.1.2帕邢定律1.3.1.3直流辉光放电的现象与其特性1.3.1.4高频辉光放电的特性1.3.2溅射原理1.3.2.1溅射现象1.3.2.2溅射机理1.3.2.3溅射率1.3.2.4溅射原子的能量和速度1.3.3溅射镀膜技术1.3.3.1二极溅射1.3.3.2三极或四极溅射1.3.3.3射频（rf）溅射1.3.3.4磁控溅射1.3.3.5反应溅射1.4离子镀膜1.4.1离子镀原理1.4.2离子镀膜条件1.4.3离子镀的特点1.4.4离化率与离子能量1.4.5离子的轰击作用1.4.6离子镀类型1.4.6.1直流二极离子镀1.4.6.2三极和多极型离子镀1.4.6.3射频离子镀1.4.6.4空心阴极离子镀1.4.6.5活性反应离子镀 2化学气相沉积2.1化学气相沉积的特点和分类2.1.1化学气相沉积的特点2.1.2化学气相沉积技术的分类2.2cvd反应类型2.3cvd过程的热力学2.3.1化学反应的自由能变化2.3.2cvd中的化学平衡的计算2.4cvd中的气体输运2.4.1流动气体边界层及影响因素2.4.2扩散和对流2.5cvd中薄膜生长动力学2.5.1薄膜生长的均匀性2.5.2温度与沉积速率2.6cvd装置2.7低压化学气相沉积2.8等离子化学气相沉积2.8.1等离子体的性质2.8.2pcvd的特点2.8.3常用的pcvd装置2.8.3.1直流等离子化学气相沉积2.8.3.2脉冲等离子化学气相沉积2.8.3.3射频等离子化学气相沉积2.8.3.4微波等离子化学气相沉积2.9金属有机物化学气相沉积2.10激光化学气相沉积2.11分子束外延 3硬膜材料3.1金刚石薄膜3.1.1金刚石的结构和特点3.1.2金刚石的性质及应用3.1.2.1金刚石的力学性能3.1.2.2金刚石电学性能3.1.2.3金刚石的热学性能3.1.2.4金刚石膜的光学性能3.1.2.5金刚石膜的其他性能3.1.3金刚石膜的表征3.1.4低压合成金刚石的机理3.1.4.1金刚石膜生长的基本原理3.1.4.2低压气相生长金刚石的驱动力3.1.4.3金刚石膜生成的基本条件3.1.5低压沉积金刚石的方法与装置3.1.5.1概述3.1.5.2热丝化学气相沉积3.1.5.3微波等离子体化学气相沉积金刚石膜3.1.5.4等离子射流法3.1.6金刚石涂层刀具3.1.6.1金刚石涂层刀具的特点3.1.6.2金刚石涂层刀具的技术性能3.2类金刚石薄膜3.2.1类金刚石的相结构与表征3.2.1.1类金刚石的相结构3.2.1.2类金刚石膜的表征3.2.2类金刚石膜的性能3.2.2.1dlc膜的力学性能3.2.2.2dlc膜的电学性能3.2.2.3dlc膜的光学性能3.2.2.4dlc膜的其他性能3.2.3dlc膜的应用3.2.3.1dlc膜在机械领域的应用3.2.3.2dlc膜在声学领域的应用3.2.3.3dlc膜在电磁学领域的应用3.2.3.4dlc膜在光学领域的应用3.2.3.5dlc膜在医学领域的应用3.2.4dlc膜的制备方法3.3立方氮化硼薄膜3.3.1氮化硼的结构和性质3.3.1.1六角氮化硼的结构和性质 3.3.1.2菱形氮化硼的结构和性质 3.3.1.3纤锌矿氮化硼的结构和性质 3.3.1.4立方氮化硼的结构和性质 3.3.2氮化硼的相图3.3.3立方氮化硼的表征3.3.3.1傅立叶变换红外谱（ftir）分析 3.3.3.2x射线光电子谱（xps）分析 3.3.3.3氮化硼膜中化学配比的确定 3.3.3.4薄膜的形貌观测 3.3.4立方氮化硼的性质和应用3.3.5立方氮化硼的制备方法3.3.5.1物理气相沉积法 3.3.5.2化学气相沉积法3.3.5.3物理法与化学法制备cbn膜的比较3.4cnx膜3.4.1βc3n4的晶体结构3.4.2cnx膜的性能3.4.2.1硬度3.4.2.2耐磨损性能3.4.2.3电学性能3.4.2.4光学性质3.4.3cnx膜的结构分析与表征3.4.3.1cnx晶体结构的分析 3.4.3.2cnx薄膜的成分分析3.4.3.3cnx薄膜的ftir分析3.4.3.4cnx薄膜的raman光谱测试 3.4.4cnx的制备方法3.4.5cnx薄膜的应用3.4.5.1氮化碳涂层刀具干切削硅铝合金3.4.5.2氮化碳涂层刀具干切削淬火钢3.5氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜3.5.1概述3.5.2氮化物薄膜3.5.2.1tin薄膜3.5.2.2其他氮化物薄膜3.5.3碳化物薄膜3.5.3.1tic薄膜3.5.3.2其他碳化物薄膜3.5.4氧化物薄膜3.5.4.1氧化铝镀层3.5.4.2氧化锆薄膜3.5.5复合膜3.5.5.1ticxny薄膜3.5.5.2纳米超硬复合膜 4薄膜在液相中的化学及电化学制备4.1薄膜在液相中的化学转化制备4.1.1化学镀4.1.1.1化学镀镍4.1.1.2化学镀铜4.1.2化学氧化4.1.2.1钢铁的化学氧化4.1.2.2有色金属化学氧化4.1.3钝化4.1.3.1钝化膜的形成过程4.1.3.2钝化膜的组成和结构4.1.3.3钝化工艺4.1.3.4影响钝化膜质量的因素4.1.4磷化4.1.4.1钢铁磷化处理4.1.4.2有色金属的磷化4.2薄膜在液相中的电化学转化制备4.2.1电镀4.2.1.1基础知识4.2.1.2电镀金属4.2.1.3电镀合金4.2.1.4电刷镀4.2.1.5非金属材料电镀4.2.2阳极氧化4.2.2.1铝阳极氧化膜4.2.2.2铝阳极氧化机理4.2.2.3铝阳极氧化工艺4.2.2.4铝阳极氧化膜的着色和封闭4.2.2.5阳极氧化法制备氧化铝模板4.2.2.6其他有色金属阳极氧化4.2.3微弧氧化4.2.3.1铝及铝合金的微弧氧化4.2.3.2钛及钛合金的微弧氧化4.2.3.3微弧氧化技术的应用现状及前景参考文献
封面
书名:薄膜技术与薄膜材料
作者:石玉龙
页数:242
定价:¥30.0
出版社:化学工业出版社
出版日期:2015-03-01
ISBN:9787122226181
PDF电子书大小:89MB 高清扫描完整版