微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用_PDF下载[124MB-百度云]顾长志，等著

内容简介

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　　《纳米科学与技术：微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用》共分十二章，第1-8章分类介绍了几种主要的微纳加工技术，包括：光学曝光、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、激光加工技术、纳米压印技术、离子束技术、薄膜技术和自组装加工，即简要概述了各种加工方法的科学基础，又从实用出发，介绍了各种技术的主要工艺过程，特别涉及各种技术根据需要*新发展的一些创新方法；第9－12章按几个不同的领域，介绍了微纳加工技术在纳米材料与器件研究中的一些应用实例，包括电学、光学、磁学、生物等其它领域。这些成果深刻影响了当前纳米科学与技术的发展，希望能对从事相关领域研究的读者有所启发和借鉴。

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《纳米科学与技术》丛书序前言第1章光学曝光1.1 光学曝光系统的基本组成1.2 光学曝光的基本原理与特征1.2.1 光学曝光的基本模式与原理1.2.2 光学曝光的过程1.2.3 分辨率增强技术1.3 短波长光学曝光技术1.3.1 深紫外与真空紫外曝光技术1.3.2 极紫外曝光技术1.3.3 x射线曝光技术1.3.4 liga加工技术1.4 光学曝光加工纳米结构1.4.1 泊松亮斑纳米曝光技术1.4.2 表面等离激元纳米曝光技术1.4.3 基于双层图形技术的纳米加工1.5 光学曝光加工三维微纳结构1.5.1 灰度曝光技术1.5.2 基于欠曝光的三维曝光技术1.5.3 基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术参考文献第2章电子束曝光技术2.1 电子束曝光系统组成2.1.1 电子枪2.1.2 透镜系统2.1.3 电子束偏转系统2.2 电子束曝光系统的分类2.2.1 扫描模式2.2.2 束形成2.3 电子束抗蚀剂2.3.1 电子束抗蚀剂的性能指标2.3.2 电子束抗蚀剂制作图形工艺2.3.3 常用电子束抗蚀剂及其工艺过程2.3.4 特殊的显影工艺2.3.5 多层抗蚀剂工艺2.3.6 理想抗蚀剂剖面的加工2.4 电子束与固体的相互作用及邻近效应2.4.1 电子束与固体的相互作用2.4.2 邻近效应及校正2.5 充电效应及解决方法2.5.1 引入导电膜2.5.2 变压电子束曝光系统2.5.3 临界能量电子束曝光2.6 三维结构的制备2.6.1 平整衬底上三维结构的加工2.6.2 三维衬底上图形的制备2.7 电子束曝光分辨率2.8 新型的电子束曝光技术2.8.1 投影电子束曝光2.8.2 微光柱阵列电子束曝光2.8.3 反射电子束曝光参考文献第3章聚焦离子束加工技术3.1 聚焦离子束系统的基本组成3.2 聚焦离子束的基本功能与原理3.2.1 离子束成像3.2.2 离子束刻蚀3.2.3 离子束辅助沉积3.2.4 fib的传统应用3.3 聚焦离子束的三维纳米加工3.3.1 fib刻蚀加工三维结构3.3.2 fib沉积加工三维结构3.3.3 fib辐照加工直维结构参考文献第4章激光加工技术第5章纳米压印技术第6章刻蚀技术第7章薄膜技术第8章自组装加工第9章微纳加工在电学领域的应用第10章微纳加工在光学领域的应用第11章微纳加工在磁学领域的应用第12章微纳加工在其他领域的应用