晶体硅太阳电池制造技术
内容简介
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《晶体硅太阳电池制造技术/新能源应用技术丛书》不仅介绍了太阳电池每个工艺环节的工艺流程及参数，而且分析了该工艺环节的原理、控制难点，以及与其他工艺环节之间的关联性。此外，还在每章后给出了论文索引，便于读者继续学习。《晶体硅太阳电池制造技术/新能源应用技术丛书》在结构上遵循晶体硅太阳电池制造的各个环节的步骤逐步介绍其原理、工艺技术、设备种类。在深入阐述其原理的同时，对于生产线的工艺技术及设备进行了论述。同时对于国际上该项技术的新进展进行详细的讨论，既注重介绍其实用技术，也深入分析其原理，这对于目前太阳电池生产线建设中的技术人员很有帮助。 《晶体硅太阳电池制造技术/新能源应用技术丛书》适合于晶体硅太阳电池生产线上的技术人员、高等院校相关专业的师生及研究单位研究人员阅读参考。
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目录
前言第1章 晶体硅太阳电池的原理及工艺流程1．1 晶体结构与能带理论1．2 光吸收1．3 载流子的复合1．4 半导体pn结1．5 载流子的输运机理1．6 载流子的收集1．7 光管理1．8 晶体硅太阳电池的基本结构1．9 晶体硅太阳电池的性能1．10 晶体硅太阳电池的结构参数优化1．11 晶体硅太阳电池的基本制备工艺参考文献第2章 表面织构化工艺2．1 减反及陷光原理2．2 晶体硅电池产业中的表面织构化及清洗工艺2．3 碱腐蚀制绒2．3．1 反应原理2．3．2 金字塔的成核与生长2．3．3 添加剂2．3．4 碱性制绒工艺条件分析2．3．5 绒面结构对反射率及电池性能的影响2．4 多晶硅片的表面织构化2．4．1 反应原理2．4．2 工艺条件的影响2．4．3 绒面结构对反射率及电池性能的影响2．5 等离子体刻蚀参考文献第3章 扩散3．1 扩散原理3．1．1 扩散的基本物理机理3．1．2 扩散方程3．1．3 磷扩散的原理3．1．4 硼扩散的原理3．2 气相扩散3．3 固态源扩散3．4 扩散相关工艺3．4．1 氧化过程中杂质的扩散行为3．4．2 杂质在氧化硅中的扩散3．5 扩散对太阳电池性能的影响3．5．1 扩散吸杂3．5．2 优化发射极3．6 扩散特性的测量技术3．6．1 倾斜和染色法3．6．2 四探针测试法3．6．3 扩展电阻测试法3．6．4 电容法3．6．5 二次离子质谱（SIMS）3．6．6 电容-电压（C-V）曲线3．7 扩散设备参考文献第4章 钝化和减反射技术4．1 过剩载流子的复合机理4．2 表面复合4．2．1 表面复合速率与有效少子寿命4．2．2 平带近似条件下表面复合速率的计算4．2．3 介质层钝化的表面复合理论4．3 Si-SiO2界面4．3．1 SiO2薄膜制备技术4．3．2 SiO2薄膜的表面缺陷特性4．3．3 影响Si-SiO2界面态的因素4．3．4 Si-SiO2的界面复合特性4．4 Si-SiNx界面4．4．1 SiNx膜制备技术4．4．2 SiNx制备工艺4．4．3 SiNx薄膜的电荷特性4．4．4 SiNx表面复合速率和有效少子寿命4．4．5 p型Si-SiNx界面的寄生漏电现象4．5 Si-A12O3界面4．5．1 A12O3制备技术4．5．2 ALD制备的A12O3膜特性4．5．3 A12O3膜的钝化特性4．5．4 钝化机理4．5．5 A12O3膜的稳定性4．5．6 A12O3的叠层结构4．5．7 工业规模的ALD技术4．6 小结参考文献第5章 电极制备技术5．1 前电极优化原则5．1．1 遮光损失5．1．2 串联损失5．1．3 并联电阻5．1．4 接触复合损失5．1．5 电极优化原则5．2 丝网印刷法制备电极工艺5．2．1 丝印技术5．2．2 电极制备工艺5．3 银电极接触及导电机理5．3．1 银电极接触形成机理5．3．2 银电极导电机理5．3．3 影响接触电阻的因素分析5．4 背接触及背表面场的形成5．4．1 铝背场形成机理及作用5．4．2 影响背场质量的因素5．4．3 背反射5．4．4 烧结导致的硅片弯曲5．5 电极制备新技术5．5．1 二次印刷法5．5．2 喷墨打印法5．5．3 化学镀/电镀法参考文献第6章 硅片和太阳电池的几种测试方法6．1 少子寿命测试6．1．1 少子寿命测试简介6．1．2 载流子寿命测试在Si片和太阳电池中的应用6．2 少子寿命测试方法6．2．1 基于光电导技术的测试方法6．2．2 表面光电压（SPV）法6．2．3 调制自由载流子吸收（MFCA）6．2．4 IR载流子密度成像（CDI）6．2．5 电子束诱导电流（EBIC）方法6．2．6 光束诱导电流（LBIC）方法6．3 反射光谱分析6．4 太阳电池的I-V特性测试6．4．1 暗I-V表征双二极管模型（pn结特性的测量）6．4．2 电池在光照状态下的负载特性（光照I-V曲线）6．5 太阳电池的光谱响应曲线测试6．5．1 基于滤波片的测试系统6．5．2 基于光栅单色仪的光谱响应测试系统6．6 晶体硅太阳电池的失效分析6．6．1 发射光谱技术介绍6．6．2 电致发光测试（EL）6．6．3 光致发光测试（PL）6．6．4 热红外成像测试6．6．5 锁相热成像（LIT）测试6．7 小结参考文献第7章 晶体硅太阳电池生产线整体工艺控制技术7．1 晶体硅太阳电池生产工艺中各种影响因素7．2 与结特性有关的工艺控制技术7．3 与表面钝化特性有关的工艺控制技术7．4 与电极接触特性有关的工艺控制技术7．5 与减反射有关的工艺控制技术7．6 与织构化有关的工艺控制技术7．7 太阳电池整线工艺调整与优化参考文献第8章 组件的制备技术8．1 组件制备工艺原理与工艺流程8．2 封装材料8．2．1 光伏玻璃8．2．2 密封材料8．2．3 背板材料8．3 组件失配分析8．4 组件现场发电性能8．5 组件衰减与失效分析8．5．1 微裂纹8．5．2 蜗牛痕8．5．3 热斑效应8．5．4 PID效应8．5．5 其他类型组件失效分析8．6 组件封装发展方向参考文献第9章 组件的安全认证9．1 组件的安全认证标准与认证体系9．2 组件认证的性能测试9．3 组件认证的安全测试参考文献第10章 新型晶体硅太阳电池10．1 选择性发射极太阳电池10．1．1 激光掺杂选择性发射极太阳电池10．1．2 丝网印刷掺杂浆料10．1．3 后刻蚀（Etch Back）10．1．4 离子注入技术10．2 背面钝化局域接触太阳电池10．3 背接触太阳电池10．3．1 背接触背结太阳电池（IBC太阳电池）10．3．2 发射极穿孔卷绕（EWT）太阳电池10．3．3 金属穿孔卷绕（MWT）太阳电池10．4 硅球太阳电池10．5 薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池参考文献
封面
书名:晶体硅太阳电池制造技术
作者:王文静、
页数:342
定价:¥69.8
出版社:机械工业出版社
出版日期:2017-10-01
ISBN:9787111452720
PDF电子书大小:70MB 高清扫描完整版