薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版)(第2版)

内容简介

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本书讨论了薄膜材料制备技术中常用的真空技术、各种物理化学气相沉积技术、薄膜材料的微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法。

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目录

1 薄膜制备的真空技术基础 1.1 气体分子运动论的基本概念 1.2 气体的流动状态和真空抽速 1.3 真空泵简介 1.4 真空的测量 参考文献2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）——蒸发法 2.1 物质的热蒸发 2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度 2.3 真空蒸发装置 参考文献3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）——溅射法及其他PVD方法 3.1 气体放电现象与等离子体 3.2 物质的溅射现象 3.3 溅射沉积装置 3.4 其他物理气相沉积方法 参考文献4 薄膜的化学气相沉积 4.1 化学气相沉积反应的类型 4.2 化学气相沉积过程的热力学 4.3 化学气相沉积过程的动力学 4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟 4.5 化学气相沉积装置 4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术 参考文献5 薄膜的生长过程和薄膜结构 5.1 薄膜生长过程概述 5.2 新相的自发形核理论 5.3 薄膜的非自发形核理论 5.4 连续薄膜的形成 5.5 薄膜生长过程与薄膜结构 5.6 非晶薄膜 5.7 薄膜结构 5.8 薄膜的外延生长 5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力 参考文献6 薄膜材料的表征方法7 薄膜材料及其应用

封面

书名:薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版)(第2版)

作者:唐伟忠

页数:323

定价:¥28.0

出版社:冶金工业出版社

出版日期:2005-08-01

ISBN:9787502430979

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